品牌:苏州伟志
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丹阳市超纯水设备/直饮水/电镀超纯水/纯净水处理设备
如超纯水：
这种含有无机酸的水，当下一步通过阴离子交换树脂层时，水中的阴离子被阴离子交换树脂吸附。树脂上可交换的阴离子如OH离子被置换到水中,并与水中的H离子结合成水，即超纯水
精处理 包括紫外线杀菌、终端膜过滤和超滤。紫外线消毒器紫外线杀菌是因生物体的核酸吸收紫外线光的能量而改变核酸自身结构,破坏核酸功能而使细菌死亡。杀菌**的光谱波长为2600埃。各种膜过滤能除掉直径大于 0.2微米的颗粒，但对于清除有机物则不如反渗透和超滤有效。反渗透设备超滤是把各种选择性的分子分离。在超滤过程中，水在压力下流过一个卷式或中空纤维膜棒。膜孔径在10～200埃范围内,薄膜厚度为0.1～0.5微米,附在一个中孔的纤维棒内壁上，超滤能除去细菌和0.05微米的粒子。
将纯水与含有溶质的溶液用一种只能通过水的半透膜隔开，此时，纯水侧的水就自发的透过半透膜，进入溶液一侧，溶液侧的水面升高，这种现象就是渗透RO【Reverse Osmosis】。消退液面升高到一定高度时，膜两侧压力达到平衡，溶液侧的液面不再升高，这时，膜两侧有一个压力差，称为渗透压。如果给溶液侧加上一个大于渗透压的压力，溶液中的水分子就会被挤压到纯水一侧，这个过程正好与渗透相反，我们称之为反渗透。我们可以从反渗透的过程看到，由于压力的作用，溶液中的水分子进入纯水中，纯水量增加，而溶液本身被浓缩。
半导体行业的生产对水质要求非常严格，半导体生产用超纯水设备采用先进制水技术，保证设备出水水质符合用水需求。
半导体行业用超纯水设备工艺
预处理-UF系统-一级反渗透-PH调节-级间水箱-二级渗透-中间水箱-中间水泵-紫外线杀菌器-微孔过滤器-EDI装置-氮封水箱-增压水泵-抛光混床-循环增压泵-用水对象（>=18MΩ.CM)
半导体的生产过程中，涉及到的用水有生产用水和清洗用水。它的用水要求必须是超纯水，因为只有超纯水才能符合水质的标准，因此半导体生产用超纯水设备工艺流程：
原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点
半导体生产用超纯水设备工作原理
超纯水装置供给原水进入EDI系统，主要部分流入树脂、膜内部，而另一部分沿膜板外侧流动，以洗去透出膜处的离子，树脂截留水中的容存离子，被截留的离子在电极作用下，阴离子向正级方向运动，阳离子向负极方向运动，阳离子透过阳离子膜，排出树脂、膜之外，阴离子透过阴离子膜，排出树脂、膜之外，浓缩了的离子从废水流路中排出，无离子水从树脂/膜内流出。